项目名称：半导体光刻胶生产控温

使用设备型号：光刻胶控温模温机

在半导体材料行业，一家创新型公司面临着光刻胶的温控难题。光刻胶制程要求高精度的温度控制，确保制造过程中的质量稳定。由于反应放热，150摄氏度的制程温度对设备提出了挑战。为此他们需要一款能够控制温度的模温机，同时兼顾效率的解决方案。

光刻胶制程对温度要求高度稳定。在制程过程中，反应放热也会导致温度波动，因此需要有强大的冷却功能。我们为其选择了1平方米的板式换热器，以确保在高温下能够稳定控制温度。

控温对象即为光刻胶的制程温度。150摄氏度的控温要求在制造过程中始终保持稳定，以确保产品质量和稳定的产能。反应放热需要在控制范围内快速散热，以防止温度波动影响制程。

光刻胶控温模温机型号为EUOCBF，功率为6KW。该设备拥有隔离式防爆设计，符合EXdIIBT4标准，确保了制程。采用PLC编程控制，冷却功能也得到了有效实现，为制程提供了可靠的支持。

光刻胶控温模温机是客户制程优化的关键一环，在高温环境下稳定工作，其防爆设计为生产保驾护航，智能控制让制程更加可控。